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    六氟化鎢
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    • 六氟化鎢

    六氟化鎢

    化學式:WF6

    純度規(guī)格:6N

    用途:沉積

    主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

    電話:

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    產品詳情

    高純六氟化鎢主要應用于大規(guī)模集成電路化學氣相沉積工藝,其沉積形成的鎢導體膜可用作通孔和接觸孔的互連線,具有低電阻、高熔點的特點,純度一般需要達到5N,公司已實現(xiàn)6N級六氟化鎢的量產,憑借優(yōu)異的產品品質,多年來穩(wěn)定供應境內外集成電路和顯示面板知名客戶,客戶覆蓋廣泛。

    以品質為基石,開拓全球市場

    目前,派瑞特氣公司擁有單條年產能超過3000噸的高純三氟化氮氣體生產線,擁有高純六氟化鎢規(guī)模化生產線,擁有三氟甲磺酸系列產品研發(fā)生產基地,建設了高純鎢制品中試生產線,實現(xiàn)了企業(yè)大宗制氣的技術突破,已成為國內特氣行業(yè)產品系列豐富、生產能力大、市場覆蓋面和占有率高、持續(xù)創(chuàng)新能力強的企業(yè)。

    以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場 以品質為基石,開拓全球市場

     

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    推薦產品

    公司主要從事電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產品的研發(fā)、生產和銷售,主要產品包括高純三氟化氮、高純六氟化鎢、高純氯化氫、高純氟化氫、高純四氟化硅、高純氘氣、高純六氟丁二烯、高純八氟環(huán)丁烷、高純電子混合氣等電子特種氣體,以及三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、雙(三氟甲磺酰)亞胺鋰等含氟新材料。


    三氟化氮

    化學式:NF3

    純度規(guī)格:5N

    主要用途:清洗、刻蝕

    主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)、 顯示面板


    六氟化鎢

    化學式:WF6

    純度規(guī)格:6N

    用途:沉積

    主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


    氯化氫

    化學式:HCl

    純度規(guī)格:5N

    用途:清洗、刻蝕

    主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)


    氟化氫

    化學式:HF

    純度規(guī)格:5N

    用途:清洗、刻蝕

    主要應用領域:集成電路(LOGIC/DRAM/3D NAND)

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